Suministro e instalación de un sistema de grabado por haz amplio de iones (Broad Ion Beam Etching System) destinado al Instituto de Microelectrónica de Barcelona – Centro Nacional de Microelectrónica de la Agencia Estatal Consejo Superior de Investigaciones Científicas.

Detalle del contrato público, su órgano contratante, adjudicatario y vínculos documentados.